Desarrollo de procesos de litografía
Analyze focus-exposure matrices, Bossung curves, process windows, CD response, stochastic variability, and next DOE points.
I+D de semiconductores
De la idea al experimento en un solo espacio de IA.
Vicena ayuda a científicos e ingenieros de semiconductores a pasar de literatura e investigación de PI a búsqueda de materiales, diseño experimental, simulación, análisis de datos e informes listos para decidir dentro de un espacio científico desplegable.
Literatura + PI
Cuadernos + datos
Despliegue privado
Entrada de evidencia
Convierte preguntas técnicas tempranas en informes citados, mapas de patentes, comparaciones de materiales y listas de preguntas abiertas.
Planificación experimental
Convierte evidencia e hipótesis en tablas DOE, planes de metrología, controles, criterios de aceptación y recomendaciones de próximas pruebas.
Ejecución de cuadernos
Usa cuadernos reproducibles para ventanas de proceso, mapas de oblea, métricas de defectos, modelos sustitutos y análisis de datos inspeccionables.
Artefactos de decisión
Genera informes técnicos, tablas CSV, figuras, cuadernos, memos de compatibilidad, borradores de método e informes listos para revisión.
Por qué importa
I+D pierde impulso cuando ideas, evidencia, experimentos y datos viven en herramientas separadas.
Un proyecto de semiconductores rara vez empieza con un solo dataset. Empieza con preguntas sobre materiales, ventanas de proceso, patentes, tiempo de herramienta, supuestos de simulación, exportaciones de metrología y el siguiente experimento. Vicena lleva esos pasos a un espacio trazable.
01
Idea
02
Literatura
03
IP
04
Materiales
05
Experimento
06
Simulación
07
Datos
08
Informe
Flujos de semiconductores
Creado para el trabajo entre preguntas técnicas y decisiones de ingeniería.
Use Vicena to keep the question, evidence, assumptions, files, simulations, data, and reports connected as the work moves from concept to experiment.
Mapas de oblea y analítica metrológica
Decompose wafer-level signatures into radial trends, residuals, field effects, outliers, CDU, overlay, film thickness, and defect distributions.
Análisis de defectos y fallos
Cluster defect morphologies, connect process changes to failure hypotheses, and produce targeted next-test plans for review.
Materiales y química de procesos
Screen candidates for compatibility, residue risk, outgassing concern, solubility, hazards, process performance, and supporting evidence.
Modelado de imagen aérea y contorno de resist
Ver how pattern geometry, source assumptions, threshold behavior, printed contours, and edge slope affect lithography decisions.
Variabilidad estocástica y robustez
Visualize line-edge ensembles, CD distributions, process uncertainty, and robustness against focus, dose, and material variation.
Salidas concretas
No respuestas genéricas. Artefactos que ingenieros pueden inspeccionar, repetir, editar y compartir.
Vicena combines AI reasoning with scientific work surfaces: workspace files, notebooks, literature and patent research, chemistry intelligence, method drafting, data analysis, and report generation.
Process-window notebook
DOE recommendation table
Wafer-map decomposition
Defect morphology embedding
Materials tradeoff map
Literature and patent brief
Compatibility memo
Method development protocol
Technical report
Control
Tus ideas. Tus datos. Tu PI. Tu control.
Vicena puede usarse como espacio científico alojado o desplegarse donde equipos de semiconductores necesiten más control de datos. Los despliegues empresariales pueden conectar IA a archivos privados, datos experimentales, modelos propietarios, archivos internos, cómputo controlado, endpoints privados y espacios con acceso controlado.
Vicena supports technical landscape analysis and IP research workflows, but it does not provide legal freedom-to-operate conclusions. It is not positioned as a replacement for production OPC, scanner-control systems, TCAD, EDA, or calibrated lithography simulators.